光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。在光刻过程中，光刻胶涂敷是一个重要的技术环节。

光刻胶现有涂覆方式主要有旋涂法和喷雾法。

超声波雾化喷涂涂胶法可以灵活的应用于多种面型的基底，既可以用于平面基底的涂胶又可以用于曲面基底涂胶。还具有节省光刻胶、重复性强、涂层均匀性好、涂层厚度和粗糙度易于控制等特点。常州井芯半导体设备有限公司经过多年的对超声波的研究实验，推出了超声波喷涂设备来进行光刻胶雾化喷涂。

超声波雾化喷涂通过超声波喷嘴的超声振荡可产生微米级别的光刻胶小液滴，这种可以减小光刻胶流体动力学的影响。在喷涂过程中，晶圆缓慢的旋转同时摆臂移过整个晶圆，较低的旋转速度可以减小离心力的影响。同时这种旋转也使得光刻胶可以完全覆盖整个深孔的所有角度。

超声喷涂光刻胶可以比离心涂胶法节省70％的光刻胶溶液。重现性也比较高，对于所有带有同样尺寸孔的晶圆，不管孔的位置在哪，光刻胶的厚度都是重现的，喷涂工艺不存在定向效应，均匀度也更高。超声喷涂工艺不受限制底层材料，既可以应用于绝缘体也可以应用在导体层上。这些优点都有益于超声雾化喷涂法在商业生产中的应用。